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>20%固含量碳納米管分散液研磨分散機

20%固含量碳納米管分散液研磨分散機

CMSD2000

直接聯系

上海依肯機械設備有限公司

德國

產品規格型號
參考報價:

10-20萬元

品牌:

IKN

型號:

CMSD2000

關注度:

3378

范圍(量程或細度):

0-2微米

創新點:

具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散分散的穩定性。該設備可以適用于各種分散分散工藝,也可用于生產包括對乳狀液、懸浮液和膠體的均質混合。

應用行業:

化工 能源 電磁漿料

典型用戶:

廣州 上海 北京

產品介紹

 


碳納米管分散液研磨分散機,碳納米管高速研磨分散機,碳納米管進口研磨分散機,碳納米管分散液管線式分散機,IKN高速分散機,不銹鋼高速分散機

 

碳納米管、碳納米管分散劑和液體介質混合均勻后,經過特定的分散設備和分散工藝,制備出碳納米管漿料。漿料產品具有高含量、高流動性的特點,是經濟型的分散產品。
   

碳納米管漿料經過離心沉降處理,進一步提高分散品質,得到碳納米管分散液。分散液產品具有高分散性、高穩定性的特點,是精致型的分散產品。

 

 

碳納米管分散液由多壁碳納米管、碳納米管分散劑、液體介質等三種成分組成,經過特定的機械研磨設備和分散工藝,首先制備出碳納米管漿料。碳納米管漿料再經過14000轉/秒、0.5小時高速剪切處理,進一步提高分散品質,得到高分散性、高穩定性的碳納米管分散液,是精致型的分散產品。

 

分散是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發生化學反應的物質的混合過程。工業分散的目標是在連續相中實現“令人滿意的”精細分布。 

眾所周知納米氧化物極易產生自身的團聚,使得應有的性能難以充分發揮。納米材料的分散顆粒細化到納米級后,其表面積累了大量的正、負電荷,納米顆粒的形狀極不規則,這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加,當降至1nm時,表面原子比例高達90%,原子幾乎全部集中到顆粒表面,處于高度活化狀態,導致表面原子配位數不足和高表面能。納米顆粒具有很高的化學活性,表現出強烈的表面效應,很容易發生聚集而達到穩定狀態,從而團聚發生


納米材料的分散 目前,國內產品質量較好的企業使用的分散方式主要采取一步法的高速剪切分散,能基本滿足用戶的需要。由于我們行業的特點,有相當多的中小企業分散設備十分落后,分散時根本形成不了剪切力,只是一種攪拌,氣相二氧化硅在樹脂中根本形成不了網狀結構,從而無法發揮材料的性能。造成這種情況的主要原因① 尚未對分散的作用有正確的認識.許多生產商并未意識到分散的重要性;② 不知道對***終產品的品質如何評價,

分散方式 :研磨分散,沙磨分散,球磨分散等

研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤??筛鶕锪弦筮M行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質等功能,設備轉速可達14000rpm,是目前國產設備轉速的4-5倍。

從設備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:

1.研磨頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結構(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

5.循環次數(越多效果越好,到設備的期限就不能再好了。)

 

線速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉子直徑)X 轉速 RPM  /   60

 所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

 

CMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

型號

流量

L/H

轉速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節到**允許量的10%

 

碳納米管分散液研磨分散機,碳納米管高速研磨分散機,碳納米管進口研磨分散機,碳納米管分散液管線式分散機,IKN高速分散機,不銹鋼高速分散機

 





13795214885  賈清清



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