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小型高速研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。在膠體磨的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。

小型高速研磨分散機轉速**可達14000rpm，可24小時連續運行，定轉子精密度高達0.2-0.3的配合間隙。

研磨分散乳化技術發展至今已形成一門有別于傳統攪拌的新學科，并且還在不斷拓展它的使用領域及技術更新，被使用者美譽為“攪拌器的工業革命”。

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小型高速研磨分散機具體體積小、能耗低、操作簡便等諸多優點，IKN小型分散機是與IKN生產型分散機參數上的一個縮放。通常情況下，在小型實驗室分散機高轉速運轉下，可以使實驗人員做出理想分散效果，但當物料投產時會發現，在生產過程中幾乎找不到能跟小型實驗室分散機配套的生產線在線式分散機。為此，IKN特別推出一款小型中小試分散機，當小試中試成功后無需調整工藝配方，可直接使用IKN生產型設備直接生產。

正常國產分散的轉速為3000rpm，而我們IKN通過底座下面的皮帶輪對設備進行了1:3的增速，使速度**可達9000rpm，正常的國產乳化機定轉子一般是304不銹鋼的，而我們IKN常規設備采用了316L不銹鋼的，如果客戶物料有特殊要求我們可以提供碳化鎢鈷、氧化鋯、陶瓷、哈氏合金等材料加工成的定轉子，以確保達到客戶的使用要求。 

小型研磨分散機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

CMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節到**允許量的10%

與同類產品比較優勢分析

CMD2000作為一個用于混合分散工藝的設備，其具有連續性操作特性，因此也稱為連續式超高速混合分散機，能夠很好的滿足大批量連續生產作業的要求，與傳統的批次式分散機相比具有很多優勢：

（1）分散效率更高。批次式分散機在進行分散前往往還需要預攪拌，在其基礎上才能實現較好的分散混合的效果，因此所需時間更多，產量較少，適用于不連續生產或產量較小的情況；而連續式分散機則可以直接進行投料，更短時間內能夠實現混合液的粒徑要求，產量更大，效率高，適用于連續生產，產量大的情況。

（2）分散效果更好。批次式分散機安裝在罐體內，物料與分散頭距離松散，工作時依靠強大的吸力迫使物料進入分散頭中，但分散過程中仍存在部分物料逃逸情況，混合分散后粒徑分布較寬，此外批次式分散機一般僅為單層分散頭結構，不能實現足夠小的粒徑要求；而連續式分散機由于分散腔內部設計空間更小。分散頭與物料接觸密切，剪切充分，分散腔內設計成多層定轉子咬合結構，優化了粗細齒形結構，可使混合分散后的粒徑分布較窄，效率更高。

（3）技術功能指標更好。CMD2000系列產品與批次式產品比較在相同的馬達情況下，轉速有明顯優勢，具有相對節能高效的優點，可以在更短時間內處理更多符合要求的物料產品，能夠為大批量生產的企業實現生產過程中成本的降低。

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