粉體行業在線展覽
NT-V
面議
瑯菱
NT-V
1716
100nm-2μm
納米級別、超細研磨、支持定制
此設備應用于新產品的研發加工,高科技產品的小量試臉,質量控制和過程優化。該過程的一個基本宗冒是重復性 .主要優勢在于靈話。一教可代表當前**濕法研磨技術的機型 ,是您產品研發,檢驗原材料及驗證配方的**選擇。此設備已經受到了全國30多家大專院校及科研機構的親身驗證使用。
研磨效果等同大型生產設備,實驗結果可直接放大于生產!
產品特性
★專為產品開發,原材料鑒定以及研磨介質的評估而設計。
★配備高速分散器,適合從微米到納米級不同粘度產品的研磨。
★自吸式/泵吸式,*小批量為1ml ,根據批次大小可靈活調整。
★靈活的運作模式,物料浪費小,適合于連續性操作。
★研磨介質可選0.03-2.0mm ,物料*低可達30納米。
★研磨槽拆卸清洗方便,可快速轉換實驗配方。
★要求無金屬污染時可選用不同的材質氧化鋯,陶瓷,碳化硅, PU材料。
技術指標
★研磨桶凈容量: 1L
★研磨細度范圍: 1μm~ 30nm
★研磨介質≥0.03mm
★研磨介質填充比例:建議70%-90%
★分離器形式:大面積篩網分離器
★分離器間隙: 0.1-0.15mm (可供選擇)
★冷卻水溫度: 8-12*C
★冷卻水壓力: 0.4Mpa
NT-0.3L
LSM 5L-100L
ZrO
LBM-T1
LDM-20G
NT-V6~1000
NT-V6~1000L
LFS系列
NT-X系列
NT-VS2L
LS-Q系列
NT-VS系列