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1.產(chǎn)品介紹

    氫能、MPCVD培育鉆石、MOCVD半導(dǎo)體、色譜分析、電子、冶金、石化、光伏等許多行業(yè)都需要高純度的氫氣。在各種氫分離工藝中，膜分離法因設(shè)備小巧、操作簡單、能耗低、噪音低等而具有獨(dú)特的優(yōu)勢。在各種透氫膜材料中，鈀膜因透氫性好、耐高溫、產(chǎn)氫純度高而*為突出，用于超高純氫的生產(chǎn)已有近五十年歷史。相對于傳統(tǒng)的軋制鈀膜，負(fù)載于多孔陶瓷或不銹鋼基材上的鈀膜厚度更薄(5-8 μm)，具有強(qiáng)度高、滲透率高、易放大等諸多優(yōu)點(diǎn)。基于鈀膜的氫分離工藝是小規(guī)模制氫系統(tǒng)的**，尤其適用于氫能發(fā)電系統(tǒng)（如甲醇重整反應(yīng)器+鈀膜純化器+燃料電池）。鈀膜具有高溫穩(wěn)定性，還可用作制氫、加氫、脫氫等反應(yīng)的膜催化反應(yīng)器。

    我公司以教授和海歸博士為主體、以青年博士、碩士為骨干，建立了專業(yè)化、國際化的研究團(tuán)隊(duì)，主持完成了包括歐盟框架計(jì)劃、國家“863”計(jì)劃、國家自然科學(xué)基金等一系列科研項(xiàng)目，經(jīng)十余年持續(xù)研發(fā)，成功開發(fā)了高性能的鈀膜產(chǎn)品，并投入工業(yè)化生產(chǎn)。

2.產(chǎn)品技術(shù)參數(shù)

基體材料：多孔陶瓷或多孔不銹鋼

     膜管長度：50 – 1200 mm

     膜管外徑：10-20 mm   鈀膜厚度：2 – 50 μm   工作溫度：300 – 500℃

     原料氣壓力：≤5 MPa   原料氣純度：＞20%   輸出氫氣純度≥ 99.9999999%（9N），與原料程度相關(guān)

     氫氣回收率：＞75%    H2/N2理想選擇性＞100000

     膜組件具體尺寸規(guī)格可根據(jù)客戶需求訂制。

3.工作原理

    氫氣及其同位素可以很容易地透過鈀膜，而其它任何氣體均被截留，因此鈀膜可用于氫氣純化。氫氣透過鈀膜的方式遵循溶解—擴(kuò)散機(jī)理：

    1)氫氣先在鈀膜表面進(jìn)行化學(xué)吸附并解離成氫原子；

    2)氫原子溶解于鈀膜，進(jìn)入鈀或鈀合金的金屬原子晶格間隙；

    3)氫原子從鈀膜的一側(cè)擴(kuò)散到另一側(cè)；

    4)氫原子從鈀膜表面析出并重新結(jié)合成氫氣分子。