粉體行業(yè)在線展覽
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面議
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二硅化鉭粉主要用于發(fā)熱元件、集成電路、高溫抗氧化涂層、高溫結(jié)構(gòu)材料及航空、航天等領(lǐng)域。
技術(shù)參數(shù)
產(chǎn)品歸類 | 型號 | 平均粒徑(um) |
純度 | 比表面積 (m2/g) | 體積密度(g/cm3) | 晶型 | 顏色 |
納米級 | CW-TaSi2-001 | 50nm | 99.5 | 36.23 | 5.16 | 立方 | 灰黑色 |
微納級 | CW-TaSi2-002 | <1.0 | 99.5 | 25.12 | 5.81 | 立方 | 灰黑色 |
超細級 | CW-TaSi2-003 | 1-3um | 99.5 | 16.13 | 5.94 | 立方 | 灰黑色 |
顆粒級 | CW-TaSi2-005 | 325目 | 99.5 | 7.28 | 6.98 | 立方 | 灰 色 |
加工定制 | 根據(jù)客戶需求適當調(diào)整產(chǎn)品純度及粒度 |
主要特點
微納米二硅化鉭粉通過可變電流激光離子束氣相法制備,純度高,粒徑小,分布均勻,比表面積大,表面活性高,耐高溫,抗氧化,硬度高,是一種工程材料。TaSi2=237.12,密度9.14g/cm3,熔點2200℃。
應用領(lǐng)域
二硅化鉭粉主要用于發(fā)熱元件、集成電路、高溫抗氧化涂層、高溫結(jié)構(gòu)材料及航空、航天等領(lǐng)域。
技術(shù)支持
可以提供微納米硅化鉭粉在航空航天、復合材料、高溫結(jié)構(gòu)件中的應用技術(shù)支持,具體應用咨詢請與銷售部人員聯(lián)系。
包裝儲存
本品為抽真空包裝,應密封保存于干燥、陰涼的環(huán)境中,不宜長久暴露于空氣中,防受潮發(fā)生團聚,影響分散性能和使用效果。