粉體行業(yè)在線展覽
硅溶膠/二氧化硅拋光液
面議
川研科技
硅溶膠/二氧化硅拋光液
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Sciyea二氧化硅拋光液主要由高純度的氧化硅微粉所組成。可避免加工時(shí)易產(chǎn)生的刮傷現(xiàn)象,適用于工件的精拋,能達(dá)到工件要求的鏡面效果,可替代同類進(jìn)口產(chǎn)品。
基本信息
適用于藍(lán)寶石材料、超硬陶瓷材料、硅片、不銹鋼、鎂鋁合金、化合物半導(dǎo)體等拋光加工;
PH值穩(wěn)定基本保持不變
含量15-45(w%)
廣泛用于多種材料的納米級(jí)化學(xué)機(jī)械拋光
特性
粒徑均一(粒徑分布窄,形貌成正球狀)
拋光效率高(特殊配方,PH穩(wěn)定不變)
高平坦度(表面質(zhì)量Ra<0.2nm TTV<3um)
循環(huán)次數(shù)多,使用壽命長
結(jié)晶速度慢,性能穩(wěn)定
產(chǎn)品詳情
型號(hào) | 中心粒徑(nm) | PH值 | 應(yīng)用領(lǐng)域 |
3800 | 20-40 | 10.0 | 單晶硅、碳化硅、砷化鎵、激光晶體等化合物半導(dǎo)體。 |
3801 | 60-80 | 10.0 | 藍(lán)寶石襯底、激光晶體、光學(xué)晶體、鈮酸鋰、鉭酸鋰等。 |
3803 | 80-120 | 10.5 | 激光晶體、精密金屬、鋁合金、氧化鋁陶瓷。 |
3803S | 60-80 | 3.0 | 氮化鋁陶瓷 |