擴散氧化爐

　擴散爐是半導體生產線前工序的重要工藝設備之一，用于大規模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件和光導纖維等行業的擴散、氧化、退火、合金和燒結等工藝。水平管式爐的設計考慮了硅片生產的多種工藝性能需要，具有**生產能力和優越的性能指標。

　采用高可靠性工控機+PLC模式，對爐溫、進退舟、氣體流量、閥門進行全自動控制,實現全部工藝過程自動化；
　　關鍵部件均采用進口，確保設備的高可靠性；
　　具有友好的人機界面，用戶可以方便地修改工藝控制參數，并可隨時顯示各種工藝狀態；
　　具有多種工藝管路，可供用戶方便選擇；
　　具有多種報警功能及安全保護功能；
　　具有強大的軟件功能，配有故障自診斷軟件，可大大節省維修時間；
　　恒溫區自動調整，串級控制，可準確控制反應管的實際工藝溫度。

適用晶片尺寸： 2~8英寸圓片
　　工作溫度： 600℃～1300℃；
　　可配工藝管數量： 1~4管/臺
　　恒溫區長度及精度：≤±0.5℃/300~800mm （800℃～1300℃），
　　單點溫度穩定性：≤±0.5℃℃ /24h （1100℃）；
　　溫度斜變能力：**升溫速率：20℃/min，**降溫速率：5℃/min；
　　具有超溫、斷偶、熱偶短路、工藝氣體流量偏差報警和保護功能；
　　可根據用戶要求定制產品。

用于半導體器件、集成電路制造過程中擴散、氧化、退火及合金工藝。