粉體行業在線展覽
面議
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本設備適用于評估和控制在半導體生產中的外延過程并且以被使用在多種不同的材料上, 例如:Silicon, Germanium, III-V including III-Nitrides.
CVP21的凈室和模塊化的系統設計結構使得本系統可以高效率,準確的測量半導體材料(結構,層)中的摻雜濃度分布.選用合適的電解液與材料接觸,腐蝕,從而得到材料的摻雜濃度分布。電容值電壓掃描和腐蝕過程由軟件全自動控制
CVP21的系統特點
• 堅固可靠的模塊化系統結構 .光學,電子和化學部分相對獨立.
• 精確的測量電路模塊
• 強力的控制軟件,系統操作,使用簡便
• 完善的售后服務
知名用戶:
(Shin-Etsu SEH or ISFH)In the field of solar cell research, the CVP21 system is currently being used at many research centres. It was first used in 1999 by the Fraunhofer Institute for Solar Energy Systems (ISE) in Freiburg, Germany, and since then it has been installed at the Institute for Molecules and Materials (IMM) in Nijmegen, The Netherlands, the RWE Space Solar Power GmbH in Heilbronn, Germany, the Hahn-Meitner-Institute (HMI) in Berlin, Germany, and the Institute for Solar Energy Research (ISFH) in Hamelin/Emmerthal, Germany.
在德國和日本都有很多太陽能電池用戶使用,鑒于商業保密需要不能公開。
有效檢測:
產品經理:Mike Zhai
聯系電話:021- 34635258/59/61/62
手 機:
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