粉體行業在線展覽
面議
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原位程序升溫原位反應系統是在標準樣品臺基礎上搭建四電極反饋控溫的加熱模塊,在掃描電鏡中實
現樣品的氣氛、液氛環境及固體樣品高分辨成像和精準、均勻、安全控溫,溫度精度優于 ± 0.1K,**溫度1000℃。通過精確的熱場模擬及獨特的芯片設計,實現無漂移加熱過程,可在加熱升溫過程中實現實時觀測成像。樣品臺上的原位芯片采用特殊的組裝和密封方式與電鏡的真空阻隔,避免電鏡受到污染和損壞。
系統規格
溫度范圍 | RT~1000℃ |
適用樣品 | 靜態&流體氣液、固體 |
窗口膜厚 | 25nm, 50nm |
液體池厚度 | 200~2000nm |
芯片管路 | 一進一出 |
溫度精度 | ±0.1K |
加熱均勻性 | ≥99.5% |
加熱電極數 | 4 |
EDS/WDS | √ |
EBSD/SE | √ |
漂移率 | <0.5nm/min |
適用電鏡 | ZEISS, FEI, JEOL, Hitachi, Others |
獨特優勢
超高分辨率
a.超薄氮化硅膜(25-50nm)
b.分辨率優于10nm
精確度、靈敏度高
a.四電極形成反饋控制系統,控溫準
b.觀測區域全覆蓋,升溫快且均勻
穩定性好
a.科學設計,漂移率*小化
b.樣品臺與芯片匹配良好,芯片不漂移
應用領域
氣體環境加熱
熱催化
水汽重整
石油裂解
煤制油
合成氨
液體環境加熱
納米催化劑合成
溫致反應過程
溶劑熱過程
固體直接加熱
EBSD原位分析
金屬材料
石油地質巖石礦物
化工高分子材料
新能源電池材料
半導體
售后服務
1、設備運抵現場,我方技術人員同時到達,一同開箱檢驗,并提供有關設備的搬運、倉儲、注意事項的技術咨詢服務;
2、設備進行安裝調試階段,我方技術人員到現場協助安裝調試,及時處理安裝過程中所遇到的問題,確保系統成功使用;
3、合同要求提供產品使用、維護說明書,設備的原理圖、接線圖、施工圖等技術資料及備品。建立售后跟蹤,及時了解設備運行情況、接受用戶的報修、投訴、以便及時安排技術人員解答或趕赴現場;
4、加強與用戶的聯系,重視用戶的意見,制定各用戶的質量跟蹤信息卡制度,健全用戶檔案,并且對產品進行回訪,了解設備的運行情況,以確保用戶長期安全可靠地使用我公司的設備。
5、公司儲存充足的零配件,隨時滿足客戶單位對備品備件的要求。