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程序升溫原位液體反應系統是在標準的樣品臺基礎上搭建四電極反饋控溫的加熱模塊,在透射電鏡中實現樣品的液氛環境埃米級高分辨成像和精準、均勻、安全控溫,溫度精度優于±0.1K,**溫度1000℃。通過精確的熱場模擬及獨特的芯片設計,實現無漂移加熱過程,可在加熱升溫過程中實現實時觀測成像。原位液氛反應納流控安全管理系統實現納升級別流體引入,高效精確控制液體池中的流體的流速流量,*低為0.5nL/s,引入流體在極其微量級別,即使在芯片窗體薄膜破裂的情況下,也不會有大量液體滲漏,使得電鏡的安全得以保證,實驗不受影響可持續進行。此外,用戶還可以選擇電學模塊,實現電熱外場耦合反應。
獨特優勢
原子級分辨率
a.超薄液夾層(100-200nm)
b.超薄氮化硅膜(10-50nm)
精確度、靈敏度高
a.四電極形成反饋控制系統,控溫準
b.觀測區域全覆蓋,升溫快且均勻
c.溫控范圍: RT~1000℃
穩定性好
a.科學設計,漂移率*小化
b.樣品臺與芯片匹配良好,芯片不漂移
系統規格
溫度范圍 | RT~500℃ |
液體模式 | 靜態或流體 |
窗口膜厚 | 10nm, 25nm, 50nm |
液體池厚度 | 100~200nm |
芯片管路 | 一進一出 |
溫度精度 | ±0.1K |
加熱均勻性 | ≥99.5% |
加熱電極數 | 4 |
(HR)TEM/STEM | √ |
(HR)EDS/EELS | √ |
漂移率 | <0.5nm/min |
適用電鏡 | FEI, JEOL, Hitachi |
適用極靴 | ST,XT,T,BioT,HRP,HTP,CRP |
售后服務
1、設備運抵現場,我方技術人員同時到達,一同開箱檢驗,并提供有關設備的搬運、倉儲、注意事項的技術咨詢服務;
2、設備進行安裝調試階段,我方技術人員到現場協助安裝調試,及時處理安裝過程中所遇到的問題,確保系統成功使用;
3、合同要求提供產品使用、維護說明書,設備的原理圖、接線圖、施工圖等技術資料及備品。建立售后跟蹤,及時了解設備運行情況、接受用戶的報修、投訴、以便及時安排技術人員解答或趕赴現場;
4、加強與用戶的聯系,重視用戶的意見,制定各用戶的質量跟蹤信息卡制度,健全用戶檔案,并且對產品進行回訪,了解設備的運行情況,以確保用戶長期安全可靠地使用我公司的設備。
5、公司儲存充足的零配件,隨時滿足客戶單位對備品備件的要求。