粉體行業在線展覽
CM-007
100-150萬元
超邁光電
CM-007
380
●本裝置使用電阻蒸發、電子束蒸發和離子源輔助清洗、輔助沉積和原位刻蝕進行復合,用于制備特種薄膜,薄膜具有均勻性、附著力、抗損傷、低顆粒物污染等特點,是半導體制程中關鍵工序的核心裝備,其技術長期被美國、日本等國技術巨頭所壟斷,屬于國內卡脖子裝備,也是制約國內半導體領域自主可控的關鍵設備,該設備的技術突破和產業化對國內半導體產業發展具有積極意義。
CM-008
CM-007
CM-005
CM-006
CM-004
CM-003
CM-002
CM-001
CM-020
CM-019
CM-018
CM-017