粉體行業在線展覽
面議
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裝置概述
本裝置是催化劑預處理裝置,擁有四個氣路,兩套獨立的氣路控制單元,加熱爐安裝在裝置的左右兩側,選用精密的控制儀表,使得裝置具有控溫精度高、可靠性高、操作簡便、結構緊湊的特點。該裝置可用于催化劑預處理,包括還原、氧化、碳化、硫化、氮化等,也可用于復合材料的后處理。
技術參數
- 氣路:1-4(任選);
- 加熱爐:1-2(任選),加熱爐溫度Max:1200 ℃;
- 氣體質量流量器:0 – 500 mL/min(任選);
- 工作壓力:常壓;
- 溫度控制:± 0.5 ℃;
- 計算機控制(任選)。