粉體行業在線展覽
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北京泊菲萊科技有限公司
北京
面議
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HTPPRS高溫高壓光反應釜系統由光化學反應釜、加熱保溫部分、氣液取樣及控制等部分組成；該光化學反應釜采用頂照式，具有雙層腔式的高溫耐壓防霧光窗結構，可防止高溫氣體
在視鏡上的冷凝結霧現象，較好的維持了光能的穩定輸入；加熱系統采用便攜、穩定
可靠PID 溫控儀、加熱套、納米隔熱套等，通過對反應釜內溫度的直接監測來反饋控
制，有利于提高試驗可靠性及重復性；氣液取樣，通過高壓介質梯級泄壓的方式，可
直接從外端口手動取樣，操作簡便且有效；在控制部分，除溫度控制外，還接有壓力
監測、安全閥、泄壓端口及進氣端口，使系統能夠安全可靠運行。該反應釜用于高溫
高壓下的光化學反應測試，能夠對反應溫度進行控制，對反應壓力進行調節，可手動
取出光化學反應的氣液樣品，便于及時測試分析，具體應用范圍較廣，特別適用于高
校、科研院所的少量光化學反應的寬參數范圍的測試分析。
系統參數：
●設計容積（有效）：50ml，100ml，200ml，訂制。
●設計工作溫度：200°C
本產品是一種帶有除霧通光窗口的高溫高壓光催化反應釜，特別可用于高溫高壓環境下光解水制氫、光催化還原二氧化碳制甲醇、光化學、光解水、有機化學等領域的微量反應與收集實驗
●設計工作壓力：2.5MPa
●釜體材料：SU304不銹鋼
●閥門及連接材料：SU316L不銹鋼
●反應器容器：聚四氟乙烯
●光窗口材料：拋光JGS2紫外石英（耐壓窗口）或合成石英
●光窗口直徑：25.4mm
●帶有溫控加熱裝置及均勻傳熱設計。
●帶有氣體通入功能。
●帶有工作溫度、壓力傳感器及顯示。
●帶有磁力攪拌功能。
●帶有自動泄壓保護
●可選配外保護箱體
●可進行氣相、液相樣品檢測
