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小型離子濺射儀

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廣州競贏科學儀器有限公司

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549

產品介紹

108真空鍍膜儀是一款結構緊湊的手動型鍍膜系統,特別適用于掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜。

主要特性

l通過高效低壓直流磁控頭進行冷態精細的噴鍍過程,避免樣品表面受損。

l操作容易快捷,控制的參數包括放氣以及氬氣換氣控制。

l可用MTM-10高分辨膜厚控制儀(選件)精確測定所鍍膜的厚度。

l數字化的噴鍍電流控制不受樣品室內氬氣壓力影響,可得到一致的鍍膜速率和**的鍍膜效果。

l可使用多種金屬靶材:Au Au/Pd,Pt,Pt/PdAu靶為標配),靶材更換快速方便。

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技術參數

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濺射系統

樣品室大小

直徑120mm x 120mm

靶材

Au 靶為標配, Au:Pd, Pt, Pt:Pd (選件);

大小:直徑57mm x 0.1mm

樣品臺

可以裝載12SEM樣品座,高度可調范圍為50mm

濺射控制

微處理器控制,安全互鎖

濺射電流

5~45mA可調

濺射頭

低電壓平面磁控管,靶材更換快速,環繞暗區護罩

計量表

真空: Atm - 0.001mbar,電流:0~50mA

厚度監控 (選件)

使用MTM-10高分辨厚度監控儀(選件)精確測定所鍍膜的厚度

控制方法

具有氣體換氣和泄氣功能,帶有“暫停”控制的數字定時器(5300s

真空系統

真空泵

2級直連式高速真空泵

抽氣速率

3.0 m3/小時,真空度到 0.1mb所需時間30.

極限真空

5 x 10-3mba

桌上系統

真空泵可置于抗震臺上,全金屬集成耦合系統

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