粉體行業在線展覽
粉體行業在線展覽
直接聯系
柜谷科技發展（上海）有限公司
日本
面議
654
13.56MHz高頻輸出的等離子清洗機，搭載RIE·DP雙模式
使用等離子的表面處理裝置。著重于“使用簡單”的臺式 高性能型號，調取數據簡單，以電子材料為中心，可對應 多種用途。
特征
● 可變更電極構造提高等離子效果。
● 搭載高精度適配器，高性能RF 電源。
● 可根據需求規格提供定制。
用途
● 硅晶圓的灰化及蝕刻
● 基板表面污垢處理
● IC/LED封裝、BGA/CSP基板處理
● 半導體相關部品的電子材料的干式清洗
● 自然氧化膜·有機物去除
● 界面活性處理
● 表面污染物去除
內槽
規格
| 型號 | V1000 | V1000X | V1000XS |
| 等離子模式 | DP/RIE | ||
| 高頻電源 | 13.56MHz | ||
| 輸出功率 | Max1000W | Max1000 & 1500W | |
| 有效電極尺寸 | W280×D280mm | W300×D300mm | W400×D375mm |
| 電極 | 平行平板 | 2段電極（獨立） | 平板（多目的） |
| 反應氣體 | 聚合控制器2系統（填充氣路另行安裝） | ||
| 真空泵（標配） | 約1000L/min | 約1500L/min | 1000 & 1500L/min |
| 安全裝置 | 門檢測開關、聯鎖機構、緊急停止開關、溫度過升防止器等 | ||
管路連接圖
FORJ
德國MicroTec—CUT4055
PD-10電鏡粉末制樣儀
全自動切片機
YPZ-GZ110L
SPEED wave
ZYP-X60T
XHLQM-30
Spex 3636 X-Press? 實驗室用自動壓片機
