粉體行業在線展覽
面議
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儀器簡介:
薄膜熱應力測量系統(薄膜應力儀,薄膜應力計,薄膜應力測試儀),測量光學設計MOS傳感器榮獲美國**(**號US 7,391,523 B1)!同時kSA公司榮獲2008 Innovation of the Year Awardee!
該設備已經廣泛被全球知名高等學府(如:Harvard University 2套,Stanford University,Johns Hopkins University,Brown University 2套,Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute,西安交通大學,中國計量科學研究院,中科院微系統研究所,上海光機所等)、半導體制和微電子造商(如IBM.,Seagate Research Center,Phillips Semiconductor,NEC,Nissan ARC,Nichia Glass Corporation)等所采用;
同類設備:
薄膜應力測試儀(薄膜應力測量系統,薄膜應力計);
薄膜殘余應力測試儀;
實時原位薄膜應力儀;
技術參數:
Film Stress Tester, Film Stress Measurement System,Film Stress Mapping System;
1.變溫設計:采用真空和低壓氣體保護,溫度范圍RT~1000°C;
2.曲率分辨率:100km;
3.XY雙向程序控制掃描平臺掃描范圍:up to 300mm(可選);
4.XY雙向掃描速度:可達20mm/s;
5.XY雙向掃描平臺掃描步進分辨率:2 μm ;
6.樣品holder兼容:50mm, 75mm, 100mm, 150mm, 200mm, and 300mm直徑樣品;
7.程序化控制掃描模式:選定區域、多點線性掃描、全面積掃描;
8.成像功能:樣品表面2D曲率、應力成像,及3D成像分析;
9.測量功能:曲率、曲率半徑、應力強度、應力、Bow和翹曲等;
10.溫度均勻度:優于±2攝氏度;
主要特點: 1.**技術:MOS多光束技術(二維激光陣列);
2.變溫設計:采用真空和低壓氣體保護,溫度范圍RT~1000°C;
3.樣品快速熱處理功能;
4.樣品快速冷卻處理功能;
5.溫度閉環控制功能,保證優異的溫度均勻性和精度;
6.實時應力VS.溫度曲線;
7.實時曲率VS.溫度曲線;
8.程序化控制掃描模式:選定區域、多點線性掃描、全面積掃描;
9.成像功能:樣品表面2D曲率成像,定量薄膜應力成像分析;
10.測量功能:曲率、曲率半徑、薄膜應力、薄膜應力分布和翹曲等;
11.氣體(氮氣、氬氣和氧氣等)Delivery系統;
實際應用: