粉體行業在線展覽
面議
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德國Nanoscrib 雙光子微納3D打印機Quantum X
重新定義精密加工。
全新的量子X是世界上基于雙光子灰度光刻(2GL)的工業系統。我們的設備結合了灰度光刻機的**性能和納米篩網首創的雙光子聚合技術的精確性和靈活性。該無掩模光刻系統實現了二維和2.5D的衍射和折射顯微光學的快速制作。
Quantum X軟件實時控制和監控打印作業,并執行自動系統校準。用戶-機器交互由專用觸摸屏或遠程控制界面支持。
關鍵特性
2.5 d高速精密加工
超光滑的表面和**的形狀精度設計自由度,亞微米分辨率完整和超快控制體素尺寸自動化過程,例如校準,
作業執行和監視
廣泛的基材樹脂組合,通過作業隊列觸摸屏和遠程控制界面,連續執行各種打印作業
TechnicalSpecifications | |
Printing technology: | Two-Photon Grayscale Lithography (2GL) |
Minimum XY feature size: | 160 nm typical; 200 nm specified* |
Finest XY resolution: | 400 nm typical; 500 nm specified* |
Finest vertical steps: | 10 nm, quasi-continuous topographies possible |
Minimum surface roughness Ra: | ≤ 10 nm* |
Scan speed: | ≤ 250 mm/s* |
Area printing speed: | 3 mm2/h typical for diffractive optical elements |