粉體行業在線展覽
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
德國
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德國Raith新一代超高分辨電子束光刻機Voyager
對于工業界和學術界所有關注速度和高分辨的電子束曝光應用，我們推薦您選擇VOYAGERTM這款專業電子束光刻系統。
Raith非常重視這款具有吸引力的在使用壽命期間具有高性價比、新開發的、創新的eWRITE體系結構。
系統的硬件和軟件被一致設計為自動曝光操作，先進的高性能圖形發生器和電子光學系統優化設計并協同一致。
系統可實現8英寸樣品的高速曝光。系統的穩定性是非常關鍵的指標，可保證大面積均勻曝光。該系統外部采用環境屏蔽罩，即使在稍差的實驗室環境下，仍然能確保系統具有非常好的熱穩定性，提高系統對外界環境的容忍度。
00001. 從*初設計到樣品制備完成，實現高速樣品加工，提高產量
00002. 智能設計：設備占地面積小，且集成環境屏蔽罩
00003. 創新的、未來安全型系統架構
00004. 專業的電子束曝光系統，可實現每小時1cm2的高速曝光，高性價比
Raith新推出的eWrite技術結合了專業電子束光刻的光學系統和創新的圖形發生器設計，該技術適用于研發及批量生產的所有工作。
· HSQ膠上制作亞7nm線條
· SU8膠上制作 1x1 cm2 菲涅爾透鏡，曝光時間為53分鐘，圖為菲涅爾透鏡中心區域
· PMMA雙層膠上制作150nm T型柵結構
· ZEP520膠上制作 1x1 cm2光柵結構，曝光時間小于2小時
· 高速度模式（40nA束電流下曝光160um大結構）和高分辨模式（0.4nA束電流下曝光10nm細小結構）自動切換
· ZEP520膠上制作光子晶體波導結構
主要應用: · 高速直寫 · 衍射光學元件 · 防偽元件 · 批量加工化合物半導體器件 樣品臺: · 6“ 移動范圍 · Z方向移動范圍大 | 電子槍技術: · eWrite · 電子 · 50 kV 獨特直寫模式: · traxx 長線條無寫場拼接曝光模式 · periodixx周期結構無寫場拼接曝光模式 |
