粉體行業在線展覽
粉體行業在線展覽
科研級磁控濺射設備—MS-700
直接聯系
合肥致真精密設備有限公司
安徽
面議
致真精密
科研級磁控濺射設備—MS-700
572
MS-700磁控濺射設備是一款具有多功能、多陰極的磁控濺射系統，具有超高真空，單原子層沉積精度的特點。可根據需求配置4inch以下的圓形陰極，可選擇垂直濺射、自動傳輸、反應濺射、膜厚測量等配置。適用于研發和生產需要多靶濺射的中高精度的工藝需求。
性能參數
晶圓尺寸 | 4inch-6inch |
鍍膜均勻性 | 優于±2% |
極限真空 | 優于5×10-10mbar（金屬密封） 優于5×10-9mbar（膠圈密封） |
溫控 | RT-800℃，可選**1200℃ |
陰極數量 | 12個2inch 或 6個4inch，共焦濺射 |
電源 | DC、RF、DC Pulse |
沉積精度 | 0.1nm |
占地面積 | 4m L*3m W*2.5m H |
可選 | 低溫泵、垂直濺射、自動傳輸、反應濺射、膜厚儀、RGA、工藝菜單等 |
觀察窗擋板
傾斜式高溫樣品臺
蒸發源
圓形互聯設備（外置機械臂、內置機械臂）
兩個鍍膜系統直接互聯設備
超高真空管道傳輸設備
晶圓真空傳輸平臺—VTM
量產型磁控濺射設備—MSI-200
生產型磁控濺射設備—MSI-100-UHV
生產型磁控濺射設備—MSI-100-HV
量產級多功能薄膜沉積設備
分子束外延設備—MBE-400
