粉體行業在線展覽
PI純離子鍍膜機
面議
純源鍍膜
PI純離子鍍膜機
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主要特點
1、腔體結構由一個裝載腔室和一個真空鍍膜工藝腔室組合而成;
2、裝載腔室裝載的同時鍍膜工藝腔室同步進行抽真空,極大縮短了鍍膜前處理時間,提高工作效率;
3、裝載腔室和鍍膜工藝腔室之間我們設計采用插板閥隔開,可以有效隔斷,穩定工藝氣體;
4、傳動采用磁導向,保障傳動的穩定性。采用變頻調速電機驅動,運行速度可調節。
技術優勢
1、PIC配有高效的電磁掃描系統和過濾系統,離子束能量和方向可調,可將等離子體中的雜質顆粒、宏觀粒子、大型離子團等過濾干凈,經過磁過濾后沉積粒子的離化率為100%,并且可以過濾掉大顆粒,因此制出的納米薄膜非常致密且平整光滑,抗腐蝕性能好,與工件的結合力很強,在均勻性、致密性、結合度、硬度、摩擦系數、改變物質表面結構和消除薄膜顆粒等方面取得里程碑式的突破;
2、純離子鍍膜技術是低溫工藝,鍍膜過程可以控制在80?C以下。鍍膜過程中既不需要高溫也不會產生高溫,因此可以應用于塑料、橡膠等產品;
3、作為純離子鍍膜重要應用之一的類金剛石DLC鍍膜,膜層可以達到75%以上的(金剛石鍵)SP3鍵,其物理化學性質和金剛石極其類似,所以薄膜具有極高的硬度(>75GPa),極低的摩擦系數(<0.1),耐腐蝕性、光學透明度等一系列優異特征。可將鍍膜件(基體)壽命延長7-10倍。
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
合金分析儀
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
GPZT-JH10/4W
NJ-80型
X-300 X-FLUXER? 三位全自動熔片儀
NVT-HG型 單晶生長爐