粉體行業在線展覽
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高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統--PLD300
直接聯系
中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司
遼寧
面議
沈陽科學儀器
高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統--PLD300
543
占地面積（長x寬x高）:
約1.8米x0.97米x1.9米
電控描述:
全自動
工藝:
片內膜厚均勻性：≤±5%
產品概述：
系統主要由濺射真空室、旋轉靶臺、抗氧化基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成。
設備用途：
用于制備超導薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。廣泛應用于大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研。
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