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真空室結構:

圓筒形上升蓋

真空室尺寸:

φ600×500mm

極限真空度:

≤6.0E-4Pa

沉積源:

樣品尺寸，溫度:

φ240mm，1片，水冷卻

占地面積（長x寬x高）:

約3米×1.1米x2米

電控描述:

全自動

工藝:

提供標準鍍膜工藝

特色參數 :

1路工作氣路，2路備用氣路

產品概述：
本系統為單室立式結構的高真空鍍鍍膜設備，可用于開發單層膜-類金剛石膜等。系統主要由鍍膜室、靶電極、射頻電源、樣品轉臺、泵抽系統、真空測量系統、氣路系統、電控系統、加熱控溫系統、水冷卻系統等組成。

設備用途：
可用于開發類金剛石膜等