粉體行業在線展覽
粉體行業在線展覽
CMD2000
直接聯系
上海依肯機械設備有限公司
德國
10-20萬元
IKN
CMD2000
2384
0-10微米
IKN研磨分散機設計獨特，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調整。
食品工業、涂料油墨、生物醫藥、日用化工、農藥化肥、石油化工、精細化工
全國各地
碳納米管鋰電漿料分散設備，碳納米管導電漿料分散機，高轉速分散機
碳納米管是一種新型的碳素材料，由呈六邊形排列的碳原子構成數層至數十層的同軸圓管，層與層之間保持固定的距離，約0.34nm，直徑一般為2-20納米。
碳納米管以其優異的性能，在塑料改性，微型電路芯片，靜電屏蔽，鋰電池電極等領域有著廣泛應用。
碳納米管導電漿料優缺點
(1) 碳納米管具有良好的電子導電性,纖維狀結構能夠在電極活性材料中形成連續的導電網絡；
(2) 添加碳納米管后極片有較高的韌性, 能改善充放電過程中材料體積變化而引起的剝落, 提高循環壽命；
(3) 碳納米管可大幅度提高電解液在電極材料中的滲透能力；
(4) 碳納米管的主要缺點在于不易分散，與液體借出后容易團聚，粉末還滿天飛揚。
碳納米管分散難點
碳納米管導電漿料分散機，碳納米管分散，其實也就是所謂的納米級物料的分散，在做納米粉體分散或研磨時，因為粉體尺度由大變小的過程中，范德華力及布朗運動現象逐漸明顯且重要。選擇適當助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當的分散設備來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散的關鍵。
想要解決這些難點并不困難，只要充分的將碳納米管粉料與介質（水、NMP、PVDF）等充分分散均勻即可。IKN研磨分散均質機是針對易團聚且分散效果不好的物料研發的，其設計上是采用膠體磨與分散機結合設計而成，也是膠體磨的升級版本，上面一層采用錐體磨設計，使得物料能夠在定轉子間距小的間隙（間隙可調）間進行研磨，研磨后的物料瞬間進入第二層分散均質層進行剪切分散均質。除此之外還具有以下特點：
1、設備運轉速度高達14000轉，是目前普通設備的4-5倍，高效細化分散研磨物料
2、定轉子之間的間隙是可調的，研磨縫隙調節可以改變適用于特定工藝
3、膠體磨頭設有三道磨碎區，一層為粗磨碎區，二層細磨碎區，三層為超微磨碎區，通過調整定、轉子的間隙，能有效地達到所需的超微粉碎效果（也可循環加工）。
4、機身腔體采用三層夾套設計可以冷卻也可以加熱
5、采用德國雙端面機械密封，在保證有冷卻水的情況下，可以24小時連續不間斷工作
6、從實驗室設備平穩過渡到中試型實驗以及后期的工業化放大實驗，無需重新調整實驗數據，降低了設備投資的風險
從設備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：
1.研磨頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次式要好）
2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）
3.研磨的齒形結構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）
5.循環次數（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）
線速度的計算：
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
轉子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉子直徑）X 轉速 RPM / 60
所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的
設備其它參數:
設備等級：化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器
