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高濃度石墨烯漿料制備設(shè)備，液相剝離膨脹石墨制備設(shè)備，水相剪切剝離制備石墨烯設(shè)備，蠕蟲石墨制備石墨烯研磨設(shè)備，膨脹石墨制備石墨烯設(shè)備，德國進口高級安全研磨設(shè)備，高轉(zhuǎn)速研磨分散設(shè)備

IKN研磨分散機設(shè)計獨特，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整。

石墨烯由于其優(yōu)異的力學(xué)、導(dǎo)電、導(dǎo)熱等性能，正在吸引越來越多研究團隊開展其理論和應(yīng)用研究。石墨烯價格較高，開發(fā)綠色、高品質(zhì)、大規(guī)模、高濃度制備工藝成為當(dāng)前石墨烯領(lǐng)域的研究熱點，也是石墨烯能否實現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用，實現(xiàn)傳統(tǒng)產(chǎn)品的更新?lián)Q代的關(guān)鍵之一。

液相剝離膨脹石墨制備石墨烯是實現(xiàn)石墨烯綠色、高品質(zhì)、規(guī)模化制備的方法之一。膨脹石墨為非極性材料，具有優(yōu)良的吸附性，吸油值比活性炭高(NMP相、)石墨烯漿料過程中，由于膨脹石墨極高的吸附溶劑性能，膨脹石墨、表面活性劑、溶劑混合物很難形成連續(xù)懸濁液，尤其是制備高濃度石墨漿料，初始原料混和后表現(xiàn)為砂漿狀，導(dǎo)致超聲波無法在溶劑介質(zhì)中傳播，更不會進入膨脹石墨層間形成”，從而致使剝離膨脹石墨效率降低或失敗。

由于膨脹石墨優(yōu)良的吸附性，對油性溶劑和表面活性劑水溶液吸附量較大，傳統(tǒng)制備高濃度石墨烯漿料是采用濃縮低濃度石墨烯漿料的方法。過濾分離濃縮會增加制備工序，由于石墨烯片徑小，要求濾布孔徑較小，則能耗較高，還有不可避免的跑冒滴漏，產(chǎn)生大量濾液污水，和清洗濾布污水。蒸發(fā)濃縮會增加制備工序，能耗較高，同時大量的蒸發(fā)水需配置蒸發(fā)水收集系統(tǒng)，增加成本。

具體操作步驟：

1、 石墨烯漿料的制備方法，稱量膨脹石墨、分散劑和水，將膨脹石墨、分散劑和全部水進行第1混合液；將第30min-2h，得石墨烯漿料

石墨烯 分散技術(shù)三要素

二、分散劑用量推薦

三、石墨烯 分散劑概述

四、超聲波分散設(shè)備使用建議及分散實例

五、研磨分散設(shè)備使用建議

石墨烯 分散技術(shù)三要素：分散介質(zhì)、分散劑和分散設(shè)備

上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

研磨分散機的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

從設(shè)備角度來分析，影響分散效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素，研磨分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

CMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%