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新型納米結構導電碳納米管研磨分散機，新型納米結構碳納米管研磨分散機，傳熱碳納米管研磨分散機，在線式碳納米管研磨分散機，力學碳納米管研磨分散機，聚合反應法碳納米研磨分散機

采用國際先進的受控切割技術，將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內，滿足生產中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.整體式機械密封，**程度上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質污染等問題，安裝與更換方便快捷.

目前已在納米科學前沿取得國際公認的重大創新突破，通過從基礎研究到應用研究的全鏈條一體化設計，經過3~5年研究，培育形成納米科技在重大資源轉化等應用領域的顛覆性技術的重大問題。

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碳納米管，又名巴基管，是一種具有特殊結構（徑向尺寸為納米量級，軸向尺寸為微米量級，管子兩端基本上都封口）的一維量子材料。碳納米管主要由呈六邊形排列的碳原子構成數層到數十層的同軸圓管。層與層之間保持固定的距離，約0.34nm，直徑一般為2~20 nm。并且根據碳六邊形沿軸向的不同取向可以將其分成鋸齒形、扶手椅型和螺旋型三種。

上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質等功能，設備轉速可達14000rpm，是目前國產設備轉速的4-5倍。

CMD2000研磨分散機為立式分體結構,有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

CMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出*終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

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研磨分散機的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

2、 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

CMD2000系列研磨分散機設備選型表

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節到zui大允許量的10%

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聯 系  人：賈清清  （銷售部 銷售員）電      話：86 21 33506885-803移動電話：13795214885傳      真：86 21 5156****地      址：中國 上海市松江區 新橋鎮莘磚公路518號38幢402室   郵      箱：jiaqq@i******** 公司主頁：;