粉體行業在線展覽
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納米二氧化硅拋光液
13305******, 13305631650,Qq:1830343958
我公司系列二氧化硅拋光液產品均是以高純硅粉為原料,經特殊工藝生產的一種高純度二氧化硅拋光液,廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光,
拋光范圍:硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦,精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。金屬鏡面拋光
拋光特點:具有應用領域廣、拋光效率高、雜質含量低、拋光后容易清洗等特點。如:硅片、化合物晶體、精密光學器件、寶石等的拋光加工。
技術指標:
型號 | 外觀 | 粒徑 | 含量 | 溶劑 | 應用 |
VK-SP15W | 白色乳液 | 10nm | 20% | 水 | 精密拋光 |
VK-SP30W | 白色乳液 | 30nm | 20% | 水 | 精密拋光 |
VK-SP60W | 白色乳液 | 60nm | 20% | 水 | 精密拋光 |
VK-Sp15E | 白色乳液 | 10nm | 20% | 乙二醇 | 精密拋光 |
VK-SP30E | 白色乳液 | 30nm | 20% | 乙二醇 | 精密拋光 |
VK-SP60E | 白色乳液 | 60nm | 20% | 乙二醇 | 精密拋光 |