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簡介：

單晶硅生長爐是采用直拉法生產太陽能級單晶的設備，在單晶硅的生產中，能否拉出符合質量要求的單晶，整個工藝衛生所起的作用是至關重要的，清爐這一環節是十分重要。單晶硅生長爐所需清爐的部位有：所有石墨器件上的浮塵和氧化硅一定要吸除干凈;真空排氣口和管道的氧化物每次清爐時都應清除干凈，以保證排氣暢通。氧化物的沉積目前需要人工細致的清理，不僅費時費力，也會因局部清理不到位而給生產帶來隱患，采用非接觸全方位的專用清爐設備是改進這一工藝的有效途徑。可以增強爐體的清潔能力，提高單晶爐的工作效率，使其更安全，更經濟的可靠運行。

工作原理：

單晶硅生長爐專用清爐設備以壓縮空氣作為動力源，產生一定脈沖能量的沖擊波，使積灰、結垢在爐體內或管道內的附著狀態產生分離，并使原有的積灰、結垢發生疲勞斷裂和破碎。積灰和結垢在沖擊波的作用下，從附著面剝離而被一定流速流動的氣體帶出，根據積灰的物理性質優化控制使積灰得以及時有效地清除，保持爐體清潔。