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在我們日常的實驗和生產工作中，經常要處理各種各樣的漿料。它們往往包含不同性質的固體成分，具有不同大小的初始粒徑、粘度、固含量等等，需要將它們處理到幾百納米甚至幾十納米的細度。需要選擇合適的設備，使用適當的方法，才能順利實現我們的目標。

市面上有很多類型的濕法研磨或者分散設備，如珠磨機、球磨機、砂磨機、高壓均質機、微射流均質機、高剪切分散機、三輥研磨機等等。有的設備適合做研磨，有的設備適合做分散，有的則既可做研磨，也可做分散。如何選擇適合自己的設備呢？

對于這個問題，首先，我們需要確定，我們的漿料到底是需要做研磨，還是做分散。

研磨和分散的區別

上圖展示的就是研磨和分散在微觀上的區別。

研磨，是指微觀的顆粒原本就是一整個大塊，通過施加很高的作用能，例如，用大尺寸研磨球高速撞擊它，將其破碎，使其變成一個個小塊，從而達到平均粒徑變小的目的。在這個過程中，施加的能量大小很重要。因此，研磨過程通常需要高能量。

分散，是指微觀的顆粒是本來由一個個極小的粒子相互靠近吸附在一起形成的。這種極小的粒子之間的相互作用力（如范德華力、靜電作用等）很強，需要施加一定大小的外力，例如，用小尺寸研磨球低速摩擦撞擊顆粒，來克服小粒子之間相互作用力，然后使極小的粒子分散開，從而獲得均一穩定的納米分散液。由于過強的外力很容易使粒子破碎而重新聚集，因此，分散過程往往要求用受控的低能量。

2.如何選擇合適的研磨或分散方法

對于研磨而言，如果顆粒的硬度高，根據目標粒徑的要求，從高到低可以選擇珠磨機、砂磨機和球磨機。如果顆粒較軟，可以選擇珠磨機、均質機。如果漿料粘度很高，可以選擇三輥研磨機。

對于分散而言，由于要嚴格控制分散能量，避免微觀粒子受損，多選擇使用微珠（直徑≤100um）的珠磨機。少部分使用均質機，但均質機對漿料的性質會有較嚴格的要求。

就目前市面上較常用的珠磨機而言，通過使用不同大小的研磨珠，可以在一臺設備上實現研磨和分散兩種功能，適用范圍廣，應用潛力大。

珠子的大小會深刻影響研磨/分散能量、研磨/分散效率產能，以及所能達到的粒度下限，因此，是實現納米研磨和納米分散的決定因素，在使用珠磨機時，需要慎重選擇。

大珠和小珠在處理漿料時的區別

日本廣島金屬品牌（株式會社廣島金屬&機械）專注于立式珠磨機的研發、生產與制造，于1995年率先開發出使用微珠（直徑≤100um）的珠磨機，并一直在微珠珠磨機領域保持領先，當前最小可以使用直徑15um的研磨珠，為日本乃至世界納米材料領域的進步做出過巨大貢獻。日本廣島金屬品牌在半導體拋光液、MLCC材料、電池材料、有機/無機顏料、研磨材料、防反射膜材料、光觸媒材料、光學材料、防曬化妝品等領域均有豐富的應用經驗，歡迎您帶上問題過來咨詢，我們努力為您解決難題！