粉體行業在線展覽
CMD2000
5-10萬元
IKN
CMD2000
2669
0-2微米
IKN研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。
醫藥
河南 江西
豬腦細胞破壁高速研磨分散機,水解蛋白豬腦研磨分散機,高剪切研磨分散機 研磨分散機價格 食品研磨分散機 德國研磨分散機
IKN研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。
1)勻漿:取新鮮豬腦,去除結締組織及碎骨等非腦組織,用注射用水洗干凈,瀝干,先在攪肉機上初步攪碎,再用1:1純化水通過,研磨分散機或者膠體磨處理,得到豬腦的的勻漿;
2)(2)將勻漿液分別用胃蛋白酶、胰酶水解,收集水解上清液,進行過濾,收集濾出液; (3)將濾出液用羥基磷灰石層析柱進行吸附分離純化,調配肽圖,收集目標物; (4)采用對分子截留為8KD的濾膜進行超濾,收集濾出液,進行定氮、氨基酸分析; (5)按國家藥品監督管理局2000年12月28日頒布的編號為WS1-XG-25-2000藥品標準計算氨基酸用量,添加相應氨基酸配制成濃配液,0.22μm濾膜進行精過濾,即得注射用腦蛋白水解物的原液
IKN管線式高剪切研磨分散機是由IKN研發工程師于2013年新研發的一款用于物料精細研磨,分散,乳化,均質的高精度設備,高剪切研磨分散機結合了IKN高剪切膠體磨與IKN高剪切分散均質乳化機的高速研磨,分散,乳化,均質等功能,設備轉速可達14000rpm,是目前國產設備轉速的4-5倍。
CMD2000研磨機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。
CMD2000研磨機有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質
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加工工藝:。
1)將食品級新鮮豬腦粉碎后加入1~4倍體積極性有機溶劑,勻漿2~4小時后過濾,分別收集濾餅和濾液; (2)向步驟(1)所得濾液中加入弱極性有機溶劑和純化水的混合溶液;制備神經節苷脂總脂;用純化水溶解神經節苷脂總脂,用乙酸或磷酸調節pH至2~5,在70~100°C加熱保溫水解,水解時間為1~6小時,水解結束后加入1~3倍體積的預冷bing酮,獲得水解物沉淀;將水解物沉淀過濾干燥后用氯fang\\甲醇= 50:50的溶液溶解,上樣硅膠柱,用洗脫液洗脫硅膠柱,控制流速3-5L\\h,收集純度大于98.5%的組份,獲得高純度單唾液酸四己糖神經節苷脂; (3)向步驟(1)所得濾餅中加入1~3倍體積的bing酮,勻漿1~2小時脫去磷脂,過濾,減壓濃縮,20~30°C干燥,獲得脫脂豬腦粉;向脫脂豬腦粉中加入鹽緩沖液調節pH為5~7,按照1-3g\\L的比例分別加入兩種或三種水解酶,在25~42°C條件下水解2~10小時,水解結束后70~100°C滅活5~15min,室溫放置降溫;之后將水解液經一定分子量的超濾膜過濾,所得濾液再經截留分子量為100~500的納濾濃縮和真空冷凍干燥獲得注射級豬腦水解蛋白。
研磨分散機的優勢:
更穩定 采用優化設計理念,將先進的技術與創新的思維有效融合,并體現在具體的設備結構設計中,為設備穩定運行提供了保證.
新結構 通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供超強切割力。
更可靠 采用整體式機械密封,zui大程度上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質污染等問題,安裝與更換方便快捷.
新技術 采用國際先進的受控切割技術,將物料粉碎細度控制在設定范圍之內,滿足生產中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.
從設備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:
1.研磨頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結構(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)
5.循環次數(越多效果越好,到設備的期限就不能再好了。)
線速度的計算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉子直徑)X 轉速 RPM / 60
所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的
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