粉體行業(yè)在線展覽
真空等離子清洗機(jī)
面議
科偉達(dá)
真空等離子清洗機(jī)
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主要用途:
清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。
清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。
清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板。
清洗生物芯片、微流控芯片。
清洗沉積凝膠的基片。
高分子材料表面修飾。
牙科材料、人造移植物、醫(yī)療器械的消毒和殺菌。
改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
適用氣體:
壓縮空氣、氬氣、氮?dú)狻⒀鯕狻⒕O(shè)置有壓力表;
KWD—160204SH光學(xué)部品超聲波清洗干燥機(jī)
KWD—1000STH通過式清洗干燥線
干燥/燒結(jié)一體爐
KWD-10280SHT全自動半導(dǎo)體晶片清洗機(jī)
KWD—100162STH半導(dǎo)體晶片清洗機(jī)
KWD—7180TH空調(diào)壓縮機(jī)清洗線
KWD—3000汽車空調(diào)壓縮機(jī)件部件清洗機(jī)
KWD—80360STH汽車發(fā)動機(jī)減速箱件清洗機(jī)
KWD—1000STH全自動超高壓噴淋單工位清洗干燥機(jī)
真空等離子清洗機(jī)
UR 1/2/3
Retsch 超聲波清洗儀 UR
HEQX
5T2/5T3
QY
18L 防干燒
P系列
多功能料斗清洗機(jī)
XJ-60NA
MT-CS2
PBT-1000X