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立式退火爐
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湖南新天力科技有限公司
湖南
面議
湖南新天力
2422
該設備主要用于半導體硅晶片的退火、具有控溫精度高、溫度場均衡、升降溫速率快、可靠性高等特點,是制作半導體硅晶片材料的必備工藝設備
1、**設計溫度:1800℃
2、常用溫度:1700℃3、供電電源:AC380V±10%,3相4線, 50Hz4、加熱元件:硅鉬棒5、適用燒結氣氛:氮氣、一氧化碳、氬氣
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