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高低溫細絲爐體，硼擴磷擴工業爐主要用作半導體、功率器件、集成電路等行業中管式熱壁產品的加熱裝置。可與美國TEMPRESS、美國TYAN、美國THERMCO、荷蘭ASM、英國BTU、日本TEL等國外多種型號擴散爐配套（替代進口），采用的加工工藝，選用進口材料，制作而成。可用于2-8英寸硅片的擴散工藝。
爐體為擴散爐提供熱能源。高溫細絲爐體低溫，磷擴硼擴工業爐

詳細介紹

高低溫細絲爐體，硼擴磷擴工業爐主要用作半導體、功率器件、集成電路等行業中管式熱壁產品的加熱裝置。可與美國TEMPRESS、美國TYAN、美國THERMCO、荷蘭ASM、英國BTU、日本TEL等國外多種型號擴散爐配套（替代進口），采用guo外xian進的加工工藝，選用進口材料，制作而成。可用于2-8英寸硅片的擴散工藝。
爐體為擴散爐提供熱能源
       高溫細絲爐體低溫，磷擴硼擴工業爐擴散爐主要用途是在高溫條件下對半導體晶圓進行摻雜，即將元素磷、硼擴散入硅片，從而改變和控制半導體內雜質的類型、濃度和分布，以便建立起不同的電特性區域。
      同時還會在硅片表面生長一層二氧化硅膜，起到保護硅晶體的作用。而高溫細絲爐體低溫，磷擴硼擴工業爐爐體作為擴散爐溫區控制核心部件，在爐體運行中起到至關重要的作用。

高低溫細絲爐體，硼擴磷擴工業爐主要用作半導體、功率器件、集成電路等行業中管式熱壁產品的加熱裝置。可與美國TEMPRESS、美國TYAN、美國THERMCO、荷蘭ASM、英國BTU、日本TEL等國外多種型號擴散爐配套（替代進口），采用guo外xian進的加工工藝，選用進口材料，制作而成。可用于2-8英寸硅片的擴散工藝。
爐體為擴散爐提供熱能源
       高溫細絲爐體低溫，磷擴硼擴工業爐擴散爐主要用途是在高溫條件下對半導體晶圓進行摻雜，即將元素磷、硼擴散入硅片，從而改變和控制半導體內雜質的類型、濃度和分布，以便建立起不同的電特性區域。
      同時還會在硅片表面生長一層二氧化硅膜，起到保護硅晶體的作用。而高溫細絲爐體低溫，磷擴硼擴工業爐爐體作為擴散爐溫區控制核心部件，在爐體運行中起到至關重要的作用。