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HTAF-1700-H是一款中小型的高溫箱式氫氣氣氛還原爐；采用全新設計的雙層風冷密封殼體；真空度可達-0.1Mpa,氫氣極限壓力可達0.04Mpa,采用進口高純氧化鋁纖維板拼裝成的爐膛保溫，熱效強度更高；可采用硅鉬棒或鉬絲加熱；全系均采用兩側對輻射加熱方式，有效保證了較好溫度均勻度；采用PID溫控調節，使爐溫控制精度達到±1℃;被高校、科研院所、工礦企業廣泛用于新材料（熒光粉、金剛石等）或化學實驗室在氫氣氫氮混合氣狀態下燒結各種新材料樣品。

HTAF-1700-H高溫氫氣爐，此款儀器專門針對于材料在氫氣環境或惰性氣體環境進行燒結或是退火，其**溫度可高達1700℃。采用氧化鋁纖維作為爐膛材料，爐體頂部密封板中嵌有冷卻水管，以保證儀器工作時的密封性能。對需在惰性氣體或還原性氣體環境下燒結的材料（如熒光材料，鈦合金等），HTAF-1700-H是一個非常好的選擇。

HTAF-1700-H高溫氫氣氣氛爐又稱燒氫爐。以通氫氣或氫、氮混合氣體（含氫量>5%）作為保護氣氛的加熱設備。有立式和臥式兩種。發熱體通常采用鉬絲（鉬的熔點為2630℃），外殼為金屬，保持氣密性良好。窯具常用鉬舟，可連續生產、效率高。立式氫氣爐與臥式相類似，占地面積較小，適用于小批量生產。氫氣爐可用于陶瓷燒結或金屬化、釬焊、玻璃零件封接用的金屬零件退火和凈化等。也可用作粉末冶金及半導體合金的燒結等。在運行中要注意氣路、電路及水系統的安全，尤其要防止漏入空氣，以免引起高溫氫氣自燃爆炸事故。