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HTAF-1200系列氣氛還原爐主要包含加熱系統，抽真空系統，氣體控制系統，密封閥門系統。通過向高溫加熱設備里充入適量還原性氣體和加熱設備里面的物質發生化學還原反映，從而得到自己想要的產品或效果。

還原氣氛爐廠家廣泛應用于實驗室、工礦企業、科研單位的前期實驗，還原氣氛、惰性氣氛、氫氮混合氣氛等多種類型，額定溫度分別為1100℃、1300℃、1500℃、1600、1700℃，根據不同的氣氛，不同的溫度，使用不同的加熱元件，型號齊全，安全可靠，同時也可滿足于不同工藝實驗而特殊制造。

HTAF-1200系列氣氛還原爐以硅碳棒為加熱元件，采用雙層殼體結構和30段程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用1700型氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風冷系統，能快速升降溫，采用外殼整體密封、蓋板密封采用硅膠泥、爐門采用硅膠墊并通有水冷系統，氣體經過流量計后由后膛進出，有多處洗爐膛進氣口、出氣口處有燃燒嘴，可以通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點，是高校、科研院所、工礦企業做氣氛保護燒結、氣氛還原用的理想產品。HTAF-1200系列實驗氣氛爐廣泛應用于實驗室、工礦企業、科研單位的前期實驗，還原氣氛、惰性氣氛、氫氮混合氣氛等多種類型。