粉體行業在線展覽
擴散爐
面議
賽瑞達
擴散爐
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擴散爐應用于半導體器件、分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池及大規模集成電路制造等領域對晶片進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝,可用于4-8英寸工藝尺寸。
控制系統特點
◎ 工藝曲線的自動運行控制功能
◎ 可存儲多組PID參數供系統運行調用功能
◎ 系統故障自診功能
◎ 停電后斷點繼續運行功能等等
◎ 具有自主知識產權的軟件系統,良好的人機界面
◎ 具有多點溫度補償
◎ 具有多種故障報警及各種安全互鎖保護功能
★支持SECS/GEM通訊
★該系統可根據用戶的特殊要求增減或開發相應的功能
主要技術指標
◎ 晶圓尺寸:4~8英寸
◎ 工藝管數:1~4管/臺
◎ 工作溫度范圍:400℃~1286℃
◎ 恒溫區長度:300~1500mm
◎ 單點溫度穩定性:+0.5℃/24h
◎ **可控升溫速度:15℃/min
◎ **降溫速度:5℃/min
★可為用戶量身定制非標準產品