粉體行業在線展覽
面議
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加熱大的玻璃基片(太陽能電池,平板顯示面板等);
高溫快速加熱半導體圓晶
該系列應用廣泛,從碳納米管生產系統到產線生系統;
平面金反射爐可用于2~12英寸圓晶的退火爐和產品的烘干爐;
應用:
加熱大的玻璃基片(太陽能電池,平板顯示面板等);
高溫快速加熱半導體圓晶;
儀器特點:
Ps類型含有40mm寬分反射面,Pss類型含有20mm寬的反射面,這可以在其中放置高密度的紅外燈;
Ps和Pss都可以增加反射面來增加加熱寬度;
儀器參數:
Type | Ps15V | Ps18V | Ps110V | Ps116V |
Heating Zone | approx. 30 mm | approx. 30 mm | approx. 30 mm | approx. 30 mm |
Type | Ps35V | Ps38V | Ps310V | Ps316V |
Heating Zone | approx. 80 mm | approx. 80 mm | approx. 80 mm | approx. 80 mm |
Type | Pss34V | Pss78V | Pss1108V | Pss35V |
Heating Zone | approx. 50 mm | approx. 100 mm | approx. 100 mm | approx. 50 mm |
Type | Pss38V | Pss310V | Pss316V | Pss98V |
Heating Zone | approx. 50 mm | approx. 50 mm | approx. 50 mm | approx. 150 mm |