粉體行業在線展覽
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天津市蘭力科化學電子高技術有限公司
天津
面議
792
儀器簡介：
LK3200A型電化學工作站是在LK2000系列優點的基礎上將電流范圍擴大到2A，應用于電化學科研與教學、電池材料研制、電池充放、電催化、電沉積、腐蝕及防護研究、導電聚合物及導電膜研究、環境分析等領域的研究及阻抗測試。
技術參數：
電勢控制范圍：－10～+10V
恒電流范圍：-2A～2A
槽壓：-35V～+35V
電流檢測下限：≤10pA
電位增量：0.01 mV～50V
脈沖寬度：0.0001～10Sec
方波頻率：0.001～100KHz
交流頻率：1～10KHz
二次諧波交流頻率：1～1KHz
采樣間隔：0.0001～60000Sec
平衡時間：0～60000Sec
濾波參數：50Hz～1000KHz
電勢信號掃描范圍：10.0V
掃描速度：0.01mV/S～5000V/S
脈沖間隔：0.0001～60000Sec
脈沖振幅：0.001～0.5V
方波幅度：0.001～0.5V
交流幅度：0.001～0.4V
電解時間：1～60000Sec
電沉積時間：0～60000Sec
低噪聲程控放大1～64倍
正弦波頻率：0.01mHz～100KHz
電流測量范圍：±10mA～±1nA （8個量程檔位）
電流電位自動或手動濾波，自動或手動IR降補償，自動電位或手動電流調零
主機自帶硬件交流阻抗體系，附帶交流阻抗軟件，及數據處理軟件件，可進行測量及數據曲
線的模擬該體系提供多個阻抗測量方法。
接口通訊方式：串行通訊
恒電位技術：單電位階躍計時電流法、雙電位階躍計時電流法、計時電量法、電流—時間曲線、開路電位--時間曲線、控制電位電解庫侖法、電位溶出E-T曲線、微分電位溶出分析法。
線性掃描技術：循環伏安法及無限次循環伏安、塔菲爾曲線、線性掃描溶出伏安法。
脈沖技術：差分脈沖溶出伏安法。
方波技術：循環方波伏安法、方波溶出伏安法。
交流技術：交流伏安法、選相交流伏安法、二次諧波交流伏安法、交流溶出伏安法
恒電流技術：單電流階躍計時電位法、雙電流階躍計時電位法、線性電流計時電位法。
電化學檢測方法：電位分析-工作曲線法、電位分析-標準加入法、恒電位安培檢測、方波電位安培檢測。
交流阻抗測量技術：交流-阻抗法、阻抗-電位法、阻抗-時間法。
電池充放電測試
主要特點：
32位Windows中文界面
測試系統軟件采用32位Windows風格的軟件界面，操作簡單直觀。實時觀察窗口、圖形數據一體化窗口的運用，使得測試過程直觀高效。軟件在運行中，對用戶的操作及數據的有效性、完整性進行了充分地檢查，適時給出提示或警告。
數據實時顯示
LK3200A具有數據列表功能，能夠實時顯示阻抗的測量結果和打開文件的數據，確保你方便地查看實驗結果。
強大的數據及圖形處理
LK3200A交流阻抗測量系統上位機軟件可直接處理80000個數據點，并能以十余種圖形方式顯示測量結果（如阻抗復平面圖/Nyquist、Bode圖、Warburg阻抗圖），觀察實驗結果十分方便。
