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Leica EM ACE200低真空鍍膜儀

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鉑瑞達(北京)科技有限公司.

德國

產品規格型號
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面議

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571

產品介紹

Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀,可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發鍍碳膜功能,或者同時具有這兩種功能。能夠滿足日常SEM需求,也可用于X-射線能譜及波譜分析,或者TEM銅網鍍碳膜。全自動電腦控制,自動完成抽真空,鍍膜,放氣等全過程,一鍵操作。采用當下非常流行的觸摸屏控制,簡單方便。

特點

  ? 可任選離子濺射模式、碳絲蒸發鍍碳模式,或者雙模式,可選輝光放電(用于網格表面親水化)

  ? **設計脈沖式碳絲蒸發方式,可精確控制碳膜厚度

  ? 可選石英膜厚檢測器,精確控制鍍膜厚度,精度達0.1nm

  ? 全自動程序控制,自動完成抽真空,鍍膜,放氣等過程

  ? 觸摸屏控制,簡單方便

  ? 真空度≤7×10 -3 mbar

  ? 濺射電流:0-150mA可調

  ? 方形樣品倉**設計,樣品倉尺寸:140mm(寬)×145mm(深)×150mm(高)

  ? 工作距離調節范圍:30mm-100mm

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Leica EM ACE200低真空鍍膜儀

鉑瑞達(北京)科技有限公司.

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