粉體行業在線展覽
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北京大方科技有限責任公司
北京
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523
固定污染源氨逃逸在線分析系統
針對固定污染源氨逃逸在線監測的技術要求，本產品結合大方科技在脫硝氨逃逸在線監測的豐富經驗，研制開發環保型氨逃逸在線監測系統，專用于固定污染源氨逃逸的實時在線監測，并將數據實時傳送至DCS。設備改變傳統分體方式，采用一體化設計，占用空間小，安裝維護方便，測量精度高，滿足環保監管要求。
環保專用、經典技術和現代設計的結合
一、測量原理：
系統采用可調諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）技術進行NH3的測量，以可調諧激光器作為光源，發射出特定波長激光束，穿過待測氣體，通過分析被測氣體中NH3分子吸收導致的激光光強衰減，根據朗伯比爾定律，氣體濃度與其吸收光強成比例關系，從而實現高靈敏快速精確監測待測氣體中NH3濃度。因為激光譜寬特別窄（小于0.0001nm），且只發出待測氣體吸收的特定波長，使得測量不受測量環境中其它成分的干擾，相比其它復合光源而言，具有極高的測量精度。
二、測量方案：
根據固定污染源氨逃逸測量點溫度不高、測量濃度低、測量精度要求高等特點，方案沿用了大方科技經典的近位抽取+多反長光程測量池技術，并進行一體化設計，設備直接安裝在煙道上，空間占用小。
系統由取樣分析單元和儀表組成，一體化設計，安裝于煙道上，煙氣經采樣探頭取樣后直接進入設備樣氣室進行測量分析，無須伴熱管線。采用抽取方式可以避免煙塵和煙道振動等對測量的影響。近位抽取方式則避免了伴熱管線傳輸造成的響應時間的影響。煙氣流經管路及樣氣室全部采用高溫加熱，保證煙氣取樣過程中無氨氣吸附。分析單元采用多次反射樣氣室，測量光程可達20米，可大大提高檢測下限。
三、產品主要特點：
1.采用國際先進的可調諧半導體激光光譜技術，不受背景氣體、粉塵等因素干擾，實現快速、準確測量；
2.抽取氣體直接進入氣室，不需要經過伴熱管線，煙氣接觸的流路全程高溫伴熱無冷點，避免氨氣吸附和損失，保證樣氣真實性；
3.內置標準氣體參比模塊，并且進行動態的補償，實時鎖住氣體吸收譜線，不受溫度、壓力以及環境變化的影響，不存在漂移現象；
4.采用多次反射長光程測量技術，光程可達20米，極大地提高測量精度和檢測下限；
5.模塊化設計，開機預熱后便可正常運行無需進行現場光路調試，安裝調試靈活方便；
6.改變傳統分體方式，采用一體化設計，占用空間小；
7.大方科技特有的樣氣室設計，**技術，包含維護窗口，可以在不影響光路的情況下，對污染的光學器件進行清潔，讓維護更加快速方便。
四、典型應用：
電廠、水泥廠、玻璃廠、陶瓷廠、工業鍋爐等企業固定污染源氨逃逸監測
煉焦企業固定污染源氨逃逸監測
化工廠固定污染源氨逃逸監測
