粉體行業(yè)在線展覽
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第二代碳化硅晶片腐蝕清洗設(shè)備
直接聯(lián)系
杭州晶馳機電科技有限公司
浙江
面議
杭州晶馳
第二代碳化硅晶片腐蝕清洗設(shè)備
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設(shè)備采用雙工位設(shè)計，全封閉工作臺和強排風系統(tǒng)有效防止腐蝕性堿蒸汽對操作人員的身體傷害。該系統(tǒng)集SiC晶片熱強堿腐蝕、快速清洗，再次超聲清洗和晶片烘干為一體，充分避免了操作人員與腐蝕性強堿溶劑的接觸。整個工藝流程全部自動化控制，操作人員只需完成取放片操作，腐蝕效率高，適合產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用。
DRY-60A型熱處理爐（電動）
水平雙腔外延爐
單腔立式外延爐
第二代碳化硅晶片腐蝕清洗設(shè)備
915MHz微波等離子體沉積系統(tǒng)(裂縫天線耦合)
裂縫耦合微波等離子體沉積系統(tǒng)
拋物面環(huán)形天線微波等離子體沉積系統(tǒng)
小圓柱式微波等離子體沉積（CVD）系統(tǒng)
