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ETD-3000型離子濺射儀是依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的，*簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。

適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導體材料實驗電極制作。

1. 配置有樣品濺射室真空表和濺射電流表，用以指示、監控儀器狀態；

2. 濺射電流調整控制器、微型真空氣閥。在工作時結合內部自動控制電路很容易控制真空室壓強、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體，獲得**鍍膜效果；

3. 特殊設計的鐘罩邊緣橡膠密封圈，可保證長期使用不會出現影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現象；

4. 陶瓷密封高壓頭比通常采用橡膠密封的更經久耐用；

5. 根據電場中氣體電離特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應面積濺射靶，使濺射鍍層更均勻純凈。

配置參數如下：

2主機規格：L360mm*W300mm*H380mm

2靶（上部電極）：金：直徑：50mm，厚度：0.1mm

2真空樣品室： 直徑：160mm，高：120mm

2濺射面積： Ф50mm

2真空指示表： **真空度：≤ 4X10-2 mbar

2離子電流表： **電流：100mA

2定時器： *長時間：3600S

2微型真空氣閥： 可連接φ3mm軟管

2可通入氣體： 多種

2**電壓： -3000 DCV

2機械泵： 2L/S