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GHB-T4加熱狀態(tài)

一、優(yōu)勢：

1、制樣量大10分鐘約做4個樣。

2、鉑黃金坩堝用量少節(jié)省資金。

3、不需要擺動功能，轉動停止坩堝始終停止在水平位置，減少了機械故障。

4、操作安全冷卻后再取放樣。

5、缺點是坩堝底部粗糙后需要打磨光或者重新加工。

二、用途及適用范圍：

XRF高頻熔樣爐是與X射線熒光光譜分析儀配套使用的一種熔融法制樣設備。也可用于原子吸收光譜儀（ＡＡ）和感應藕合等離子體（ＩＣＰ）分析樣品的溶液制作。

在X射線熒光光譜分析中，樣品處理是否恰當對檢測準確度影響很大，熔融制樣法是準確度和重復性，也是技術要求較高的一種方法。在各類企業(yè)生產(chǎn)過程控制、產(chǎn)品質量控制、地質礦產(chǎn)分析、環(huán)保材料和科學研究等領域都廣泛使用。

適用于鋼鐵、水泥、陶瓷、玻璃、耐火材料、有色金屬冶煉、地礦、商檢、涂料、磷化工、鈦白粉，脫硝脫硫催化劑等行業(yè)，礦物、原料、半成品或成品樣品的熔樣。