粉體行業(yè)在線展覽
面議
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濺射設(shè)備 MVS
MVS提供單靶材或多靶濺射設(shè)備。可根據(jù)用戶需求定制。
制備透明導(dǎo)電薄膜 (如ITO,AZO)。
MVSystems, Inc. 由曼登博士(Dr. Arun Madan)創(chuàng)建于1989年。
曼登博士曾在英國丹迪大學(xué)從師于斯皮爾(Walter Spear)教授,是1970年代*早從事非晶硅材料和器件研究的人員之一。
曼登博士在非晶硅薄膜晶體管(TFT)方面進行了開創(chuàng)性的研究,這是他的博士論文的主要內(nèi)容之一。非晶硅薄膜晶體管現(xiàn)已成為平板顯示器中必不可缺的重要器件。
公司在薄膜半導(dǎo)體技術(shù)和先進的高真空半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備方面擁有14項**,包括:
多腔室PECVD沉積系統(tǒng) – 主要產(chǎn)品 用于柔性襯底的Reel-to-reel多室系統(tǒng) - 主要產(chǎn)品
碳熱絲化學(xué)氣相沉積設(shè)備 摻氟納米硅(微晶硅)材料
P型寬帶隙非晶硅材料 摻氟二氧化錫絨面透明導(dǎo)電膜(與日本Asahi公司合作)
公司生產(chǎn)制造的80多臺設(shè)備已銷往全世界23個國家和地區(qū)。
公司生產(chǎn)的主要薄膜材料和器件產(chǎn)品包括:
材料
器件
非晶硅(a-Si:H)
薄膜硅太陽電池
納米(微晶)硅 (nc-Si)
薄膜晶體管
氮化硅(SiNx),氧化硅(SiOx),氮氧化硅(SiON)
成像器件
氧化鋅(AZO),銦錫氧化物(ITO), 二氧化錫(SnO2)
X光探測器
MVSystems公司設(shè)計,制造和提供各類單腔室和多腔室薄膜沉積設(shè)備。另外,根據(jù)用戶的需求,各種
PECVD,HWCVD,和PVD腔室可以單個制造,也可配備到現(xiàn)有的團簇型(星型)或是直線型沉積系。我們公司的工程設(shè)計部門盡可能為用戶著想,以使用戶們獲取他們*需要的且價格合適的設(shè)備。
FORJ
德國MicroTec—CUT4055
PD-10電鏡粉末制樣儀
全自動切片機
YPZ-GZ110L
SPEED wave
ZYP-X60T
XHLQM-30
Spex 3636 X-Press? 實驗室用自動壓片機