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Gas loop-V靶電壓氣體閉環控制器是一種單通道靶電壓信號輸入，可控制多通道輸出氣體閉環控制系統，根據等離子體狀態，快速調節反應氣體流量。

工作模式有三種：滯回曲線模式、閉環反饋控制模式、恒定氣體流量模式。控制軟件操作采用電腦，Windows視窗界面控制，網絡通訊接口，可以實現遠程診斷功能。

適用于反應濺射中，穩定工作點或實現高沉積速率；對多層膜或分段沉積，通過界面控制就可以完成。搭配快速氣體流量計控制器MFC，簡單易用的軟件界面，具有高性價比和高可靠性等特點。