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釹鐵硼顆粒帶有較強的磁性，極易團聚，因此不能用濕法測試。而干法是通過高速氣流瞬間分散，可以克服磁性引起的團聚，因此干法激光粒度儀成為測量釹鐵硼的粒度分布的典型方法。但是由于釹鐵硼粉在空氣中具有自燃性，就是暴露在空氣中的釹鐵硼粉在環境溫度稍高時就會自燃，因此常常會燒毀吸塵器管路和濾網，使粒度測試無法正常進行，并且容易帶來危險。采取的預防措施一是不用壓縮空氣作為氣源，而用氮氣等惰性氣體作氣源；二是要

影響激光粒度儀分辨力的因素很多：（1）光電探測器數量，數量越多分辨力越高。（2）反演算法的優劣，好的反演算法分辨力高。（3）分布模型，多峰模型分辨力高，單峰模型分辨力低。（4）富氏鏡頭，相差小的富氏鏡頭分辨力高，相差大的富氏鏡頭分辨力低。

分辨力的定義是能被激光粒度儀有效辨別的兩個樣品的最小差值。分辨力是和重復性、準確性同等重要的指標，是衡量一臺激光粒度儀性能高低的主要指標。由于目前沒有評價激光粒度儀分辨力的標準樣品，因此要定量評價激光粒度儀分辨力有困難。但用戶可以通過簡單的方法定性評價你所用的激光粒度儀的分辨力。用兩種標稱值差大于5的標準樣品，按 1:1 比例混合后進行測試，如果是雙峰分布，則分辨力較高，儀器合格；不但是雙峰樣品

在測試過程中通常用遮光率這個相對值來表征懸浮液的濃度的， 遮光率的大小是由懸浮液中的顆粒個數決定的——懸浮液中顆粒數越多，散射光越強，遮光率越高；懸浮液中的顆粒數越少，散射光越弱，遮光率越低。為了達到一定的遮光率，對粒度越粗的樣品所需的顆粒數量就多；對粒度越細的樣品，只要很少一點樣品顆粒數就很多，因此所需的試樣量就很少?？梢姌悠吩酱謶腋∫旱陌俜直葷舛染驮酱?；樣品越細懸浮液的百分不濃度就越小。此外，

超細化、納米化是現代粉體材料研究和生產的趨勢，為滿足對這些材料的精確粒度分析，激光粒度儀的測量范圍也向超細化、納米化方向發展，所以現代高性能的激光粒度儀的測量下限已經達到 20nm 甚至 10nm，而樣品折射率（包括吸收率）是 Mie 散射精確求解的一個重要條件，如果折射率錯誤，將導致粒度測試結果錯誤。隨著新材料、合成材料以及混合材料越來越多，用常規手段測試這些材料的折射率很困難，這是粒度測試遇

光在真空中的速度與光在其它材料中的速度的比值叫做折射率。樣品的折射率越高，表明入射光發生折射的能力就越強。吸收率是指光照射到顆粒上熱輻射能被吸收的量與投射到顆粒上的總熱輻射能量之比。在激光粒度分析軟件系統中，折射率是用復數表達表示，它的實部是實際折射率，虛部就是吸收率?，F代激光粒度儀的軟件系統中和粉體手冊中，都能查到常見樣品的折射率和吸收率。對特殊的樣品還可以通過其他資料查找折射率和吸收率，也可

一般由兩種方法，一是采取多次取樣法，即用小勺少量多次加樣，每加一次樣觀察一下遮光率的變化，當達到預設值時就停止加樣進入分散和測試階段。二是采用定量取樣法，即對同一規格的粉體樣品，先實驗確定在最佳遮光率時所需要的樣品量，以后每次測試時都用天平稱量相同量的樣品并全部加入到儀器中測試，就可以一次達到最佳范圍遮光率要求了。

遮光率是指被顆粒散射和吸收掉的光占光總量的百分比，是激光粒度測試中用來表示懸浮液光學濃度的一個量。遮光率的計算方法是原始光強 I0 與加入樣品后探測器中心點的光強 Ii 的差除以 I0 再乘以 100% 得到，即遮光率 =（I0-Ii）/I0×100%。一般遮光率的范圍在 10±5 之間。在實際粒度測試時，最佳遮光率是復散射和代表性之間的平衡點，即把復散射減到最小，又能保證樣品的代表性。為了這個

粒度分布測量中所顯示的“濃度”一般是所接收的光信號的大小，是與顆粒數目有關的量，一般稱光學濃度而不是百分比濃度。對激光法來說，懸浮液中顆粒數越多，光學濃度越大（但如果顆粒太多，光被超量遮擋，光學濃度反而減?。?；對沉降法來說，懸浮液中顆粒數 越多，光學濃度越小。

激光粒度儀測量粒度的原理是米氏散射理論。米氏散射理論用數學語言精確描述折射率為 n、吸收率為 m、粒徑為 d 的球形顆粒，在波長為 λ 的激光照射下，散射光強度隨散射角 θ 變化的空間分布函數，此函數也稱為散射譜。根據米氏散射理論，大顆粒的前向散射光很強而后向散射很弱；小顆粒的前向散射光弱而后向散射光很強。如圖所示的是固定波長下的大、中、小顆粒的散射譜示意圖。激光粒度儀正是通過設置在不同散射角度

一、鉛中毒癥狀　　鉛鋅礦和冶煉廠，會導致鉛中毒：腦力體力不支、關節疼痛、性欲減弱、不育等，應預防鉛中毒。職業性鉛中毒通常呈慢性，鉛中毒的臨床指標主要是尿鉛超過0.08mg/l，血鉛超過50μg/t，職業史和臨床癥狀是診斷的依據。職業性鉛中毒臨床上有神經、消化、血液等系統的綜合癥狀。1、神經系統　　主要表現為神經衰弱、多發性神經病和腦病。神經衰弱，是鉛中毒早期和較常見的癥狀之一，表現為頭昏、頭痛、全

SOP 是英文 Standard Operation Program的縮寫，即“標準化操作程序”?，F在，智能激光粒度儀中都配有 SOP 功能來實現粒度測試過程自動化、標準化，實現“一鍵操作”。SOP 不僅能降低了操作人員勞動強度，更重要的是規范了測試條件，減少了人為因素導致的結果偏差，提高了測試結果的一致性。使用SOP 功能前要進行標準化操作流程設定，包括設定循環清洗次數、超聲波分散時間、樣品的

由于小角度探測器距離探測器中心僅有100微米左右，這樣因機械振動、熱脹冷縮、桌面不平等因素導致的光路系統偏移或扭曲，很容易使主光束偏離探測器中心點而照射到小角度探測器上，致使這些探測器因飽和而失效，無法探測到大顆粒產生的散射光信號從而導致錯誤的結果。自動對中系統在激光粒度儀中的作用是隨時保證探測器的中心點與富氏透鏡的焦點重合狀態，從而使探測器有效接收所有角度上的散射光，保證測量結果的準確可靠，保

一般的，粒度分布測量是通過系統識別和接收光信號來實現的。 而光信號的強弱又是由懸浮液中的顆粒個數決定的。以激光法為例，懸浮液中顆粒濃度越高，散射光信號越強，但隨之而來的復散射的現象同時加劇，影響測量結果；反之懸浮液中的顆粒濃度越低，雖然復散射現象得到緩解，但信噪比下降，代表性也不夠，同樣影響測量結果。其它粒度分布測量方法的情況也類似，所以在粒度分布測量過程中合適的顆粒濃度很重要。

使用激光粒度儀進行粒度測試，是目前應用最廣泛的一種粒度測試方法。早期的激光粒度儀用弗朗和費理論，這種理論不需要樣品折射率，但對小于5微米的樣品誤差較大。為了使激光粒度儀測量細樣品的精度更高,當今大部分粒度儀都采用Mie散射理論，這是一種精確描述顆粒對激光散射規律的理論，但Mie散射理論進行計算時需要用到樣品的折射率和吸收率，如果折射率選擇的不對就會影響粒度結果的準確性。下面介紹幾個簡單獲取樣品折射

氦氖激光器是發明時間最早、技術最成熟、應用最為廣泛的激光器之一。由于氣體原子具有確定的能級結構，在外界電子激發下將發生能級躍遷，產生受激輻射發出激光，因此氦氖激光器產生的激光是波長純凈的單色光，波長誤差只有幾納米，并具有極大的相干長度，并且不受溫度波動影響，加上諧振腔的作用，保障了激光輸出具有良好的準直性（發散角只有幾個毫弧度）。在需要良好單色光、相干性和準直性的場合，特別是精密測量領域，氦氖

半導體激光器又稱激光二極管（LaserDiode，LD），是二十世紀八十年代半導體物理發展的最新成果之一。半導體激光器的優點是體積小、重量輕、可靠性好、使用壽命長、功耗低。此外，半導體激光器采用低電壓恒流供電方式，電源故障率低、使用安全，維修成本低。目前，半導體激光器的使用數量居所有激光器之首，某些重要的應用領域，過去常用的其他激光器，已逐漸被半導體激光器所取代。此外，半導體激光器品種繁多，既有

米氏散射理論是通過麥克斯韋電磁理論嚴格推導出的、用來描述表面光滑的球體對光的散射規律的解析解。它考慮了散射體（顆粒）的光學特性（折射率和吸收系數）以及介質的光學特性。由于米氏理論考慮了樣品的折射率、吸收率、反射率，考慮了介質的折射率等因素，因此它對具有不同光學特性的樣品都能精確得到解析解，由此得到的粒度測試結果更準確，并且適用于從超細的亞微米級顆粒到較粗的毫米級顆粒，是現代激光粒度儀普遍采用的理

從使用角度來講，可以通過觀察背景狀態來快速判斷激光粒度儀是否正常。如果背景值大于4或直方圖形狀凸凹不平說明對中不良，背景值小于 0.3 說明激光器亮度下降；背景直方圖長度超過 20 個通道，說明樣品池臟換或結霧，需要清洗或處理；在背景坐標的右邊有背景信號，需要檢查樣品池和介質是否干凈。不同品牌的激光粒度儀，背景的圖形形式可能有所不同，但無論如何，背景都是在激光穿過充滿純凈介質的樣品池后各個角度探測

激光粒度儀良好的背景狀態必須同時具備以下五點：數值較低（1-3）、長度短（占20 個通道以內）、形狀斜（從左逐漸遞減）、位置左（位于坐標最左側）和穩定。影響激光粒度儀的背景狀態的因素有以下原因：一是對中不良，二是樣品池粘附顆?；蚪Y霧，三是介質不干凈，四是激光器老化。此外像樣品池中沒有介質、環境空氣中灰塵太多、富氏透鏡臟等也可能造成背景狀態異常。如果出現背景異常，首先要檢查樣品池和透鏡是否干凈，然后