粉體行業在線展覽
ECM-AP 05
60-70萬元
華爾寶(WAB)
ECM-AP 05
180
適用于高產量和高粘度產品
提供金屬和陶瓷款式
研磨腔內研磨介質密度分布均勻,可實現最高效率
可使用 ? 0.1 mm 以下的研磨介質進行高效研磨
加速器使研磨珠產生有力的流體運動,從而降低的能耗
整體優化流量控制,實現最佳顆粒停留時間分布
適用于生產所有類型的納米懸浮液
適合通道模式和循環模式
通過對研磨腔進行有效冷卻,可研磨對溫度敏感的產品
機器操作簡單且符合人體工程學原理,可實現最快的產品更換
屏幕壽命長
在更換產品時將清潔劑的成本降至最低
低噪音
多種控制解決方案
高效實驗室珠磨機是研發小批量產品新配方和計算產品放大系數的理想之選。
它能達到理想的納米級粒徑分布,并能以高效的能量輸入完成非常困難的分散和研磨任務。它是 DYNO?-MILL ECM-AP 系列的放大模型。其機座允許使用帶有 DYNO?-UNIVERSAL 技術的第二個研磨缸,在實驗室中具有非常高的靈活性和成本效益。
研磨介質分離系統的特點是流動優化和導向研磨介質回路。研磨介質在導流環的軸向引導下通過篩網表面。然后,DYNO?-ACCELERATOR DSE 將研磨介質輸送回導流環,而不會將其撕裂。
研磨介質在篩面上的軸向引導有助于將較粗的顆粒從其流經的橫截面上清除,這也是 DYNO?-MILL ECM-AP 分離系統獨特的自清潔效果的基礎。
適用于高產量和高粘度產品
提供金屬和陶瓷款式
研磨腔內研磨介質密度分布均勻,研磨效率高
可使用 ? 0.1 mm 以下的研磨介質進行高效研磨
加速器使研磨珠產生有力的流體運動,從而降低的能耗
整體優化流量控制,實現理想的顆粒停留時間分布
適用于生產所有類型的納米懸浮液
適合通道模式和循環模式
通過對研磨腔進行有效冷卻,可研磨對溫度敏感的產品
機器操作簡單且符合人體工程學原理,可實現快速的產品更換
篩網壽命長
在更換產品時,可降低清潔劑的使用成本
低噪音
多種控制解決方案
DYNO?-MILL RL
T2GE
UBM 20
UNI LAB
WAB IMPA°CT REACTOR?化學反應器
AP10
ECM-AP 05
ECO5
DYNO?-MILL KD系列
DYNO?-MILL NPM Pilot
DYNO?-MILL MULTI LAB
dyna-MIX? CM 1000