粉體行業(yè)在線展覽
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面議
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2120
二硅化鉿主要用于制造濺射靶材,雷達航空航天、電子工業(yè)、儀表儀器、醫(yī)療器械等
技術參數(shù)
產(chǎn)品歸類 |
型號 |
平均粒徑(um) |
純度 |
比表面積 (m2/g) |
體積密度(g/cm3) |
晶型 |
顏色 |
微納級 |
CW-HfSi2-001 |
<1.0 |
99.5 |
12.47 |
5.12 |
立方 |
黑色 |
超細級 |
CW-HfSi2-002 |
1-3um |
99.5 |
10.25 |
5.36 |
立方 |
黑色 |
微米級 | CW-HfSi2-005 | 325目 | 99.5 | 3.16 | 6.79 | 立方 | 灰黑色 |
加工定制 |
根據(jù)客戶需求適當調(diào)整產(chǎn)品純度及粒度 |
主要特點
微納米二硅化鉿粉、微米二硅化鉿粉通過可變電流激光離子束氣相法制備,純度高,粒徑小,分布均勻,比表面積大,表面活性高,耐高溫,抗氧化,硬度高,是一種工程材料,在各個領域有著應用。高熔點(1680℃)、高硬度、高穩(wěn)定性以及良好的導電性、導熱性、抗氧化性。
應用領域
二硅化鉿主要用于制造濺射靶材,雷達航空航天、電子工業(yè)、儀表儀器、醫(yī)療器械等
技術支持
可以提供微納米硅化鉿粉在耐磨涂層、航空航天、復合材料中的應用技術支持,具體應用咨詢請與銷售部人員聯(lián)系。
包裝儲存
本品為抽真空包裝,應密封保存于干燥、陰涼的環(huán)境中,不宜長久暴露于空氣中,防受潮發(fā)生團聚,影響分散性能和使用效果