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深圳市原速光電科技有限公司（Superald, LLC）是一家專注于原子層沉積（Atomic Layer Deposition，ALD）系統設計、工藝研發及技術咨詢的高科技企業，為半導體、柔性顯示、光學鍍膜、太陽能電池及鋰電池等領域的薄膜研發和生產提供優質的技術服務和一體化解決方案，致力打造全球一流的薄膜材料制備平臺。

工藝

可沉積薄膜種類和應用場景包括：
? High-K介電材料 (Al2O3, H2O, ZrO2, PrA1Q, Ta205, La2O3);
? 金屬互聯結構 (Cu, WN, TaN, Ru, In);
? 催化材料 (Pt, Ir, Co, TiO2):
? 生物醫學涂層 (TiN, ZrN, TiAIN, AlTIN);
?金厲(Ru, Pd, Ir Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni;
? 壓電層 (ZnO, AIN, ZnS);
? 透明電學導體 (ZnO:Al, ITO);
? 光子晶體(ZnO, Ti02, Ta3N5);等