粉體行業在線展覽
氮化硅專用燒結爐
面議
維尚科技
氮化硅專用燒結爐
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產品介紹
氮化硅專用燒結爐采用非接觸式高溫測量設計、具有真空系統過濾保護與獨特的脫蠟系統及尾氣處理設計。主要對硬質合金、金屬陶瓷等材料進行真空、加壓,使產品密致化等。主要應用于航空航天、軌道交通、半導體等新材料領域。
產品參數
裝料空間(W*H*L) | 500*500*1300、500*500*1500、500*500*1800 |
設計標準 | JB4732-1995(2005年確認版) |
設計壽命 | 20年/6000爐次 |
**溫度 | 2000℃ |
**壓力 | 10MPa |
真空泄漏率 | ≤5×10-3 mbarl/s |
高壓升壓速率 | ≤5bar/min |
升溫速率 (滿載、<1000℃) | ≤10℃/min |
升溫速率 (滿載、≥1000℃) | ≤6℃/min |
溫度均勻性 | ≤±5℃ |
測溫方式 | WRe5-26雙芯熱電偶 |
加熱區數 | 三區/四區 |
具備功能 | 正壓脫蠟、負壓脫蠟、真空燒結、壓力燒結、帶電降溫、加壓快冷、真空冷卻 |
工藝氣體種類 | N2 Ar |