粉體行業(yè)在線展覽
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面議
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硅負極(納米硅、氧化亞硅、多孔硅)CVD氣相沉積碳包覆回轉爐
適用物料:納米硅、硅氧(氧化亞硅)、多孔硅
使用工況:CVD氣相沉積碳包覆(一次包覆、二次包覆)
均勻包覆碳含量:1.6%-22%(可控可調)
適用氣體:氮氣、氬氣、甲烷、乙炔、氨氣(丙酮、苯、乙醇、瀝青等)
公司備有多臺公斤級、百公斤級硅負極用cvd爐系統(tǒng)免費供客戶實驗用,公司目前已完成300+批次的硅負極cvd實驗,通過客戶反饋實驗數(shù)據(jù)不斷優(yōu)化cvd爐的設計。通過大量實驗積累了豐富的cvd經(jīng)驗。
略
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回轉電阻爐
HGYL-3500
土壤修復煅燒窯
LXHZ-1500連續(xù)式回轉爐
外熱式回轉窯
NRY系列內熱式回轉窯
高潔凈回轉爐
三溫區(qū)真空氣氛回轉爐CVD系統(tǒng)CVD1200C 900D60III R 3ZLV
BTF-1200C-III-150-CVD
D2.2mx18m